1. Contexto institucional e papel do CTI Renato Archer

O Centro de Tecnologia da Informação Renato Archer — CTI Renato Archer — é uma unidade de pesquisa do Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (MCTI), sediada em Campinas, Estado de São Paulo. Desde sua criação, desenvolve pesquisa, desenvolvimento tecnológico, inovação e atividades de cooperação com agentes da academia, do governo e do setor produtivo.

A instituição reúne infraestrutura laboratorial especializada em áreas como micro e nanoeletrônica, nanotecnologia, materiais, manufatura avançada, inteligência artificial, tecnologias para saúde e outras tecnologias habilitadoras. Seu modelo institucional favorece tanto a execução de projetos próprios quanto o atendimento de demandas externas de pesquisa, desenvolvimento e prestação de serviços tecnológicos.

Entre as estruturas compartilhadas encontram-se os Laboratórios Abertos, concebidos para permitir a utilização de instalações especializadas por pesquisadores, universidades, instituições públicas, empresas, startups e inventores, conforme a modalidade de acesso e a avaliação aplicável a cada projeto.

2. LAmina, CTI-Nano e a infraestrutura multiusuária

No campo da micro e nanofabricação, destaca-se o Laboratório Aberto de Micro e Nanofabricação — LAmina. A estrutura se insere no ecossistema de laboratórios abertos do CTI e se relaciona ao CTI-Nano, arranjo laboratorial dedicado a atividades de pesquisa, desenvolvimento e inovação em nanodispositivos e tecnologias correlatas.

Segundo informações institucionais do CTI, o CTI-Nano integra o Sistema Nacional de Laboratórios em Nanotecnologias — SisNANO — como laboratório estratégico e é organizado em torno de três principais laboratórios abertos: LAmina, LAimage e LApacs, além de laboratórios de apoio.

Esse arranjo permite apoiar projetos envolvendo diferentes estágios do desenvolvimento de nanodispositivos eletrônicos e fotônicos, incluindo desenho, fabricação, encapsulamento e caracterização eletro-óptica, respeitada a disponibilidade de infraestrutura, o escopo técnico de cada laboratório e a modalidade de contratação ou cooperação aplicável.

3. O que compreende o serviço de fabricação de máscaras e deposição de metais

A Carta de Serviços do Governo Federal descreve o serviço do CTI como um conjunto de três etapas distintas de microfabricação, que podem ser discutidas separadamente com o cliente para avaliação da viabilidade técnica de cada processo.

4. Fabricação de fotomáscaras por escrita direta — DWL

Na escrita direta, o padrão geométrico a ser fabricado é produzido a partir de informações digitais do projeto e transferido para a camada fotossensível do substrato por um sistema óptico de geração de padrões. Essa abordagem é particularmente importante para atividades de prototipagem porque permite produzir estruturas personalizadas sem a necessidade de uma cadeia industrial completa de fabricação de máscaras.

O serviço oficial informa que a fabricação pode envolver o tratamento dos dados fornecidos pelo cliente, a geração do padrão óptico, o processo fotolitográfico de revelação da imagem e a posterior inspeção e caracterização da máscara produzida.

A especificação publicada pelo CTI estabelece uma dimensão crítica de linha de 1,0 µm. Podem ser empregadas placas de vidro soda-cálcico e quartzo.

Dimensões das fotomáscaras

A Carta de Serviços relaciona máscaras quadradas de 3 × 3, 4 × 4, 5 × 5 e 6 × 6 polegadas e informa que a área útil de gravação é inferior à dimensão total da placa.

5. Cópia de fotomáscaras por fotolitografia

O segundo módulo do serviço permite fabricar uma cópia de uma fotomáscara já existente. A reprodução é realizada por meio de copiadora Tamarack, com carregamento manual e sistema de alinhamento de substratos.

Do ponto de vista tecnológico, a duplicação de uma máscara matriz pode ser útil quando o projeto necessita preservar o master original, disponibilizar máscaras adicionais para diferentes etapas experimentais ou reduzir o desgaste decorrente do uso repetitivo em operações fotolitográficas.

Conforme a especificação publicada, o equipamento pode trabalhar com substratos quadrados de 2,5; 3; 4; 5 e 6 polegadas e substratos redondos de 3 e 4 polegadas.

6. Deposição de filmes finos metálicos por evaporação térmica

O terceiro módulo é destinado à deposição de filmes metálicos finos mediante evaporação térmica. Trata-se de uma técnica de deposição física em fase de vapor — PVD — em que o material de interesse é aquecido e vaporizado em ambiente controlado, permitindo que seus átomos se depositem sobre o substrato.

A Carta de Serviços relaciona expressamente os metais ouro (Au), alumínio (Al) e cromo (Cr), com espessura máxima de 250 nm.

Em aplicações de microeletrônica e sensores, o ouro e o alumínio podem exercer funções condutoras, formar eletrodos, contatos, trilhas, barramentos ou estruturas ópticas. O cromo é amplamente empregado em microfabricação como material metálico e pode, dependendo da arquitetura do dispositivo, integrar sistemas multicamadas ou exercer função de adesão.

Substratos relacionados pelo CTI

• Vidro soda-cálcico;
• Vidro borossilicato;
• Alumina;
• Vitrocerâmica;
• Aço inoxidável;
• Silício;
• Quartzo;
• Kapton e outros substratos cuja compatibilidade técnica seja confirmada.

7. Quadro técnico consolidado

8. Quem pode utilizar o serviço?

O atendimento não é restrito a grandes empresas ou instituições governamentais. A Carta de Serviços contempla diferentes perfis de usuários interessados em desenvolver projetos científicos ou tecnológicos.

O acesso é condicionado à análise da demanda e ocorre mediante contrapartida financeira ou não financeira, conforme a Política de Inovação do CTI e seu regramento interno.

9. Como solicitar o serviço ao CTI Renato Archer

O procedimento oficial está estruturado em três grandes fases: solicitação e análise inicial, aceite da proposta com formalização do pagamento e execução/finalização do serviço.

10. Informações operacionais importantes

11. O que preparar antes de consultar o CTI

Embora os requisitos finais dependam do projeto, a preparação técnica prévia tende a reduzir a necessidade de retrabalho e facilita a análise de viabilidade.

• Descrição objetiva do dispositivo ou protótipo a desenvolver;
• Identificação da etapa que se pretende contratar;
• Dimensões externas da fotomáscara ou substrato;
• Dimensão mínima das geometrias relevantes;
• Arquivo de leiaute ou documentação CAD disponível;
• Material do substrato;
• Metal pretendido: Au, Al ou Cr;
• Espessura desejada do filme metálico;
• Quantidade de amostras;
• Informação sobre tratamentos ou processos previamente realizados;
• Necessidade de etapas adicionais de caracterização ou integração;
• Prazo desejado para o projeto, para avaliação de disponibilidade.

12. Integração com outros serviços tecnológicos do CTI

A relevância estratégica do serviço aumenta quando se considera a variedade de competências disponíveis no CTI Renato Archer. A própria página oficial de serviços apresenta, entre os serviços recomendados ou relacionados, atividades como microssoldagem, análise por microscopia eletrônica de varredura, corte de substratos, inspeção óptica e abertura de encapsulamento.

13. Aplicações tecnológicas das fotomáscaras e filmes metálicos

A combinação de litografia, geração de padrões e deposição de filmes finos possui aplicações relevantes em diferentes campos da engenharia e da ciência aplicada. A possibilidade de produzir geometrias micrométricas e combinar metais condutores com substratos rígidos ou flexíveis permite explorar diversas arquiteturas experimentais.

14. Importância para prototipagem e desenvolvimento tecnológico

Na microeletrônica, a passagem de um desenho digital para uma estrutura física pode exigir equipamentos de alto custo, ambientes especializados, processos fotolitográficos e conhecimento acumulado em processamento de materiais. Essa barreira tecnológica é especialmente relevante para grupos de pesquisa, startups e empresas que ainda se encontram nas fases de prova de conceito e prototipagem.

A existência de uma infraestrutura pública multiusuária reduz a necessidade de cada organização internalizar imediatamente toda a cadeia de equipamentos necessária à microfabricação. Na prática, laboratórios compartilhados podem funcionar como instrumentos para antecipar testes, validar geometrias, estudar materiais e amadurecer tecnologias antes da transição para escalas superiores de fabricação.

O benefício deve ser analisado de forma técnica, e não apenas econômica. Um laboratório especializado concentra conhecimento de processos, equipamentos de alto valor, procedimentos experimentais e experiência na avaliação de compatibilidade entre materiais e tecnologias.

15. CTI-Tec, deep tech e integração com o ecossistema de inovação

A infraestrutura tecnológica do CTI também se conecta ao desenvolvimento do Parque Tecnológico CTI-Tec, instalado no campus da instituição em Campinas. A gestão operacional do parque envolve parceria com a Fundação de Desenvolvimento da Pesquisa do Agronegócio — Fundepag.

Em 2026, CTI-Tec e Fundepag divulgaram editais de fluxo contínuo relacionados a incubação, pré-incubação e residência de empresas de base científica. Entre as áreas tecnológicas abrangidas pelas iniciativas do parque aparecem micro e nanoeletrônica, nanotecnologia, sensores, Internet das Coisas, materiais avançados, biofabricação, inteligência artificial e outras áreas alinhadas às competências do CTI.

Para startups de tecnologia profunda — deep tech —, a proximidade com infraestrutura de pesquisa e desenvolvimento pode facilitar ciclos de validação, experimentação e evolução tecnológica. Entretanto, o ingresso no CTI-Tec não deve ser interpretado como acesso automático e irrestrito a todos os equipamentos do CTI: utilização de laboratórios e contratação de serviços permanecem sujeitas às regras e modalidades específicas aplicáveis.

16. Impacto estratégico e soberania tecnológica

A disponibilidade nacional de infraestrutura de micro e nanofabricação possui relevância que transcende a execução de serviços laboratoriais isolados. Equipamentos para litografia, deposição, caracterização e empacotamento demandam investimentos elevados e conhecimento técnico especializado, o que torna sua concentração em infraestruturas multiusuárias uma ferramenta importante para pesquisa e inovação.

Para projetos em estágios iniciais, a fabricação local de fotomáscaras e a possibilidade de testar filmes metálicos podem reduzir a necessidade de recorrer imediatamente a cadeias internacionais de prototipagem, permitindo iterações de projeto no ambiente nacional.

Essa capacidade é particularmente relevante para segmentos como semicondutores, sensores, sistemas embarcados, equipamentos médicos, dispositivos fotônicos, Internet das Coisas, materiais avançados e eletrônica flexível. Trata-se de uma infraestrutura que pode contribuir para ampliar competências locais e apoiar a evolução de tecnologias até níveis mais avançados de maturidade.

17. Pontos críticos antes da contratação

• Confirmar se a resolução mínima do projeto é compatível com a linha crítica publicada para o processo.
• Validar previamente a dimensão física e a área útil necessária da fotomáscara.
• Confirmar com o CTI o formato eletrônico dos arquivos de leiaute.
• Informar corretamente o material e a geometria do substrato.
• Verificar a compatibilidade do substrato com o processo de deposição.
• Especificar o metal e a espessura pretendida.
• Verificar previamente a disponibilidade dos recursos necessários.
• Não considerar o prazo de triagem como prazo de produção.
• Solicitar orçamento antes de estabelecer o cronograma definitivo do projeto.
• Consultar separadamente outros serviços de caracterização, individualização ou empacotamento quando necessários.

19. Conclusão

O Serviço de Fabricação de Máscaras por Escrita Direta, Fotolitografia por Copiadora e Deposição de Metais Finos do CTI Renato Archer representa uma infraestrutura relevante para pesquisa, desenvolvimento e prototipagem em micro e nanotecnologia no Brasil.

A combinação de geração de fotomáscaras por DWL com linha crítica informada de 1,0 µm, reprodução de máscaras em copiadora Tamarack e deposição térmica de filmes de ouro, alumínio e cromo com espessura de até 250 nm permite atender diferentes necessidades experimentais de universidades, instituições científicas, empresas, startups e inventores.

O caráter multiusuário da infraestrutura do CTI e sua articulação com competências de fabricação, imageamento, caracterização e empacotamento ampliam o potencial de desenvolvimento de projetos complexos. Cada etapa, contudo, deve ser previamente discutida com a equipe técnica e submetida à análise de disponibilidade, capacidade, recursos e viabilidade.

Para organizações que trabalham com sensores, microeletrônica, MEMS, microfluídica, dispositivos fotônicos, eletrônica flexível ou outras tecnologias habilitadoras, o serviço constitui uma alternativa nacional relevante para transformar leiautes e conceitos de engenharia em estruturas físicas experimentais.